6-цалевая падкладка N-тыпу SiC

Кароткае апісанне:

Semicera прапануе шырокі асартымент пласцін 4H-8H SiC. На працягу многіх гадоў мы з'яўляемся вытворцам і пастаўшчыком прадукцыі для паўправадніковай і фотаэлектрычнай прамысловасці. Наша асноўная прадукцыя ўключае ў сябе: пласціны для тручэння з карбіду крэмнію, прычэпы для лодак з карбіду крэмнію, лодкі з карбіду крэмнію (PV & Semiconductor), печныя трубы з карбіду крэмнію, кансольныя лапаткі з карбіду крэмнію, патроны з карбіду крэмнію, бэлькі з карбіду крэмнію, а таксама CVD SiC-пакрыцці і TaC пакрыцця. Ахоплівае большасць еўрапейскіх і амерыканскіх рынкаў. Мы з нецярпеннем чакаем магчымасці стаць вашым доўгатэрміновым партнёрам у Кітаі.

 

Дэталь прадукту

Тэгі прадукту

Монакрышталічны матэрыял карбіду крэмнію (SiC) мае вялікую шырыню забароненай зоны (~Si ў 3 разы), высокую цеплаправоднасць (~Si ў 3,3 разы або GaAs у 10 разоў), высокую хуткасць міграцыі насычэння электронаў (~Si у 2,5 разы), высокую электрычнасць прабоя поле (~Si ў 10 разоў або GaAs у 5 разоў) і іншыя выдатныя характарыстыкі.

Паўправадніковыя матэрыялы трэцяга пакалення ў асноўным уключаюць SiC, GaN, алмаз і г.д., таму што іх шырыня забароненай зоны (Eg) большая або роўная 2,3 электронвольта (эВ), таксама вядомыя як шыроказонныя паўправадніковыя матэрыялы. У параўнанні з паўправадніковымі матэрыяламі першага і другога пакаленняў, паўправадніковыя матэрыялы трэцяга пакалення маюць такія перавагі, як высокая цеплаправоднасць, моцнае электрычнае поле прабоя, высокая хуткасць міграцыі насычаных электронаў і высокая энергія сувязі, што можа адпавядаць новым патрабаванням сучасных электронных тэхналогій для высокіх тэмпература, высокая магутнасць, высокі ціск, высокая частата і радыяцыйная ўстойлівасць і іншыя цяжкія ўмовы. Ён мае важныя перспектывы прымянення ў галіне нацыянальнай абароны, авіяцыі, аэракасмічнай прамысловасці, разведкі нафты, аптычнага захоўвання і г.д., і можа паменшыць страты энергіі больш чым на 50% у многіх стратэгічных галінах, такіх як шырокапалосная сувязь, сонечная энергія, вытворчасць аўтамабіляў, паўправадніковае асвятленне і разумная сетка, а таксама можа паменшыць аб'ём абсталявання больш чым на 75%, што мае важнае значэнне для развіцця чалавечай навукі і тэхнікі.

Semicera energy можа прадастаўляць кліентам высакаякасную кандуктыўную (праводную), паўізаляцыйную (паўізаляцыйную), HPSI (паўізаляцыйную высокай чысціні) карбід крэмнію падкладку; Акрамя таго, мы можам прадастаўляць кліентам гамагенныя і гетэрагенныя эпітаксіяльныя лісты з карбіду крэмнію; Мы таксама можам наладзіць эпітаксіяльны ліст у адпаведнасці з канкрэтнымі патрэбамі кліентаў, і мінімальнай колькасці замовы няма.

Прадметы

Вытворчасць

Даследаванні

манекен

Параметры крышталя

Палітып

4H

Памылка арыентацыі паверхні

<11-20 >4±0,15°

Электрычныя параметры

Дапаможнік

Азот п-тыпу

Удзельнае супраціўленне

0,015-0,025 Ом·см

Механічныя параметры

Дыяметр

150,0±0,2 мм

Таўшчыня

350±25 мкм

Першасная плоская арыентацыя

[1-100]±5°

Першасная плоская даўжыня

47,5±1,5 мм

Другасная кватэра

Няма

TTV

≤5 мкм

≤10 мкм

≤15 мкм

LTV

≤3 мкм (5 мм * 5 мм)

≤5 мкм (5 мм * 5 мм)

≤10 мкм (5 мм * 5 мм)

Лук

-15 мкм ~ 15 мкм

-35 мкм ~ 35 мкм

-45 мкм ~ 45 мкм

Дэфармацыя

≤35 мкм

≤45 мкм

≤55 мкм

Пярэдняя (Si-грань) шурпатасць (AFM)

Ra≤0,2 нм (5 мкм*5 мкм)

Структура

Шчыльнасць мікратрубы

<1 эа/см2

<10 эа/см2

<15 эа/см2

Металічныя прымешкі

≤5E10атамаў/см2

NA

БЛД

≤1500 еа/см2

≤3000 еа/см2

NA

ТСД

≤500 эа/см2

≤1000 еа/см2

NA

Пярэдняя якасць

Фронт

Si

Аздабленне паверхні

Si-face CMP

Часціцы

≤60 шт./вафлю (памер ≥0,3 мкм)

NA

Драпіны

≤5ea/мм. Сукупная даўжыня ≤дыяметра

Сукупная даўжыня≤2*Дыяметр

NA

Апельсінавая скарынка/ямкі/плямы/палосы/ расколіны/забруджвання

Няма

NA

Сколы/водступы/пераломы/шасцігранныя пласціны

Няма

Политипные вобласці

Няма

Сукупная плошча≤20%

Сукупная плошча≤30%

Пярэдняя лазерная разметка

Няма

Назад Якасць

Задняя аздабленне

С-гранная CMP

Драпіны

≤5ea/мм, Сукупная даўжыня≤2*Дыяметр

NA

Дэфекты спіны (сколы/водступы па краях)

Няма

Шурпатасць спіны

Ra≤0,2 нм (5 мкм*5 мкм)

Лазерная разметка спіны

1 мм (ад верхняга краю)

край

край

Фаска

Ўпакоўка

Ўпакоўка

Epi-ready з вакуумнай упакоўкай

Мультывафельная касетная ўпакоўка

*Заўвагі: "NA" азначае адсутнасць запыту. Элементы, якія не згадваюцца, могуць адносіцца да SEMI-STD.

тэхн_1_2_разм
SiC пласціны

Semicera Працоўнае месца Працоўнае месца Semicera 2 Абсталяванне машына Апрацоўка CNN, хімічная ачыстка, CVD пакрыццё Наш сэрвіс


  • Папярэдняя:
  • далей: