Фотарэзіст у цяперашні час шырока выкарыстоўваецца ў апрацоўцы і вытворчасці тонкіх графічных схем у індустрыі оптаэлектроннай інфармацыі. Кошт працэсу фоталітаграфіі складае каля 35% ад усяго працэсу вытворчасці чыпа, а часавыя выдаткі складаюць ад 40% да 60% ад усяго працэсу чыпа. Гэта асноўны працэс у вытворчасці паўправаднікоў. Матэрыялы фотарэзістаў складаюць каля 4% ад агульнага кошту матэрыялаў для вытворчасці мікрасхем і з'яўляюцца асноўнымі матэрыяламі для вытворчасці паўправадніковых інтэгральных схем.
Тэмпы росту кітайскага рынку фотарэзістаў вышэйшыя за міжнародны ўзровень. Згодна з дадзенымі Інстытута даследаванняў перспектыўнай прамысловасці, мясцовыя пастаўкі фотарэзіста ў маёй краіне ў 2019 годзе склалі каля 7 мільярдаў юаняў, а тэмпы росту сумесі з 2010 года дасягнулі 11%, што значна вышэй, чым сусветныя тэмпы росту. Тым не менш, мясцовыя пастаўкі складаюць толькі каля 10% сусветнай долі, і ўнутранае замяшчэнне было дасягнута ў асноўным для фотарэзістаў нізкага класа для друкаваных плат. Каэфіцыент самадастатковасці фотарэзістаў у ВК і паўправадніковых галінах надзвычай нізкі.
Фотарэзіст - гэта асяроддзе для перадачы графікі, якое выкарыстоўвае розную растваральнасць пасля рэакцыі святла для перадачы малюнка маскі на падкладку. Ён у асноўным складаецца з фотаадчувальнага агента (фотаініцыятара), палімерызатара (святлаадчувальнай смалы), растваральніка і дабаўкі.
Сыравінай фотарэзіста ў асноўным з'яўляюцца смала, растваральнік і іншыя дабаўкі. Сярод іх растваральнік займае найбольшую долю, як правіла, больш за 80%. Нягледзячы на тое, што іншыя дадаткі складаюць менш за 5% ад масы, яны з'яўляюцца ключавымі матэрыяламі, якія вызначаюць унікальныя ўласцівасці фотарэзіста, уключаючы фотасенсібілізатары, павярхоўна-актыўныя рэчывы і іншыя матэрыялы. У працэсе фоталітаграфіі фотарэзіст раўнамерна наносіцца на розныя падкладкі, такія як крэмніевыя пласціны, шкло і метал. Пасля экспазіцыі, праявы і тручэння ўзор з маскі пераносіцца на плёнку, утвараючы геаметрычны малюнак, які цалкам адпавядае масцы.
Фотарэзіст можна падзяліць на тры катэгорыі ў залежнасці ад яго наступных абласцей прымянення: паўправадніковы фотарэзіст, фотарэзіст для панэляў і фотарэзіст на друкаванай плаце.
Паўправадніковы фотарэзіст
У цяперашні час KrF/ArF па-ранейшаму з'яўляецца асноўным матэрыялам для апрацоўкі. З развіццём інтэгральных схем тэхналогія фоталітаграфіі прайшла шлях развіцця ад літаграфіі G-лініі (436 нм), літаграфіі H-лініі (405 нм), літаграфіі I-лініі (365 нм) да літаграфіі глыбокага ўльтрафіялетавага выпраменьвання DUV (KrF248 нм і ArF193 нм), 193 нм апусканне плюс тэхналогія множнай візуалізацыі (32 нм-7 нм), а затым да экстрэмальнага ўльтрафіялетавага выпраменьвання (EUV, <13,5 нм) літаграфія, і нават неаптычная літаграфія (экспазіцыя электронным пучком, экспазіцыя іённым пучком), а таксама розныя тыпы фотарэзістаў з адпаведнымі даўжынямі хваль у якасці святлоадчувальных даўжынь хваль таксама ўжываюцца.
Рынак фотарэзіста мае высокую ступень канцэнтрацыі прамысловасці. Абсалютную перавагу ў галіне паўправадніковых фотарэзістаў маюць японскія кампаніі. Асноўныя вытворцы паўправадніковых фотарэзістаў: Tokyo Ohka, JSR, Sumitomo Chemical, Shin-Etsu Chemical у Японіі; Dongjin Semiconductor у Паўднёвай Карэі; і DowDuPont у ЗША, сярод якіх японскія кампаніі займаюць каля 70% долі рынку. Што тычыцца прадукцыі, Tokyo Ohka лідзіруе ў галіне фотарэзістаў g-line/i-line і Krf з долямі рынку 27,5% і 32,7% адпаведна. JSR займае самую высокую долю рынку ў галіне фотарэзіста Arf - 25,6%.
Згодна з прагнозамі Fuji Economic, чакаецца, што ў 2023 годзе глабальныя магутнасці па вытворчасці клею ArF і KrF дасягнуць 1870 і 3650 тон, а памер рынку складзе амаль 4,9 мільярда 2,8 мільярда юаняў. Валавы прыбытак лідэраў японскіх фотарэзістаў JSR і TOK, уключаючы фотарэзіст, складае каля 40%, з якіх кошт сыравіны для фотарэзістаў складае каля 90%.
Сярод айчынных вытворцаў паўправадніковых фотарэзістаў - Shanghai Xinyang, Nanjing Optoelectronics, Jingrui Co., Ltd., Beijing Kehua і Hengkun Co., Ltd. У цяперашні час толькі Beijing Kehua і Jingrui Co., Ltd. маюць магчымасць масава вырабляць фотарэзіст KrF. , і прадукты Beijing Kehua былі пастаўлены ў SMIC. Чакаецца, што праект фотарэзіста ArF (сухі працэс) магутнасцю 19 000 тон у год, які будуецца ў Шанхаі Сіньян, выйдзе на поўную вытворчасць у 2022 годзе.
Панэльны фотарэзіст
Фотарэзіст з'яўляецца ключавым матэрыялам для вытворчасці ВК-панэляў. На думку розных карыстальнікаў, яго можна падзяліць на клей RGB, клей BM, клей OC, клей PS, клей TFT і г.д.
Панэльныя фотарэзісты ў асноўным складаюцца з чатырох катэгорый: фотарэзісты для праводкі TFT, фотарэзісты LCD/TP, каляровыя фотарэзісты і чорныя фотарэзісты. Сярод іх фотарэзісты для праводкі TFT выкарыстоўваюцца для праводкі ITO, а фотарэзісты для ападкаў LCD/TP выкарыстоўваюцца для падтрымання пастаяннай таўшчыні вадкакрысталічнага матэрыялу паміж дзвюма шклянымі падкладкамі ВК. Каляровыя фотарэзісты і чорныя фотарэзісты могуць надаваць каляровым фільтрам функцыі колераперадачы.
Рынак панэльных фотарэзістаў павінен быць стабільным, а попыт на каляровыя фотарэзісты лідзіруе. Чакаецца, што ў 2022 годзе сусветны аб'ём продажаў дасягне 22 900 тон, а продажы - 877 мільёнаў долараў ЗША.
Чакаецца, што ў 2022 годзе аб'ём продажаў фотарэзістаў для TFT-панэляў, фотарэзістаў для LCD/TP і чорных фотарэзістаў дасягне адпаведна 321 мільёна долараў ЗША, 251 мільёна долараў ЗША і 199 мільёнаў долараў ЗША. Паводле ацэнак Zhiyan Consulting, памер сусветнага рынку фотарэзістаў для панэляў дасягне 16,7 мільярда юаняў у 2020 годзе з тэмпам росту каля 4%. Паводле нашых ацэнак, рынак фотарэзіста дасягне 20,3 мільярда юаняў да 2025 г. Чакаецца, што з перадачай індустрыяльнага цэнтра ВК-экранаў памер рынку і ўзровень лакалізацыі ВК-фотарэзіста ў маёй краіне будуць паступова павялічвацца.
Фотарэзіст PCB
Фотарэзіст для друкаванай платы можна падзяліць на чарніла з УФ-отверждением і УФ-распыленне ў залежнасці ад спосабу нанясення пакрыцця. У цяперашні час айчынныя пастаўшчыкі чарнілаў для друкаваных плат паступова дасягнулі ўнутранай замены, і такія кампаніі, як Rongda Photosensitive і Guangxin Materials, асвоілі ключавыя тэхналогіі чарнілаў для друкаваных плат.
Айчынны TFT фотарэзіст і паўправадніковы фотарэзіст усё яшчэ знаходзяцца на пачатковай стадыі вывучэння. Jingrui Co., Ltd., Yak Technology, Yongtai Technology, Rongda Photosensitive, Xinyihua, China Electronics Rainbow і Feikai Materials маюць макеты ў галіне фотарэзіста TFT. Сярод іх Feikai Materials і Beixu Electronics запланавалі вытворчую магутнасць да 5000 тон у год. Кампанія Yak Technology выйшла на гэты рынак, набыўшы падраздзяленне каляровых фотарэзістаў кампаніі LG Chem, і мае перавагі ў каналах і тэхналогіях.
Для галін з надзвычай высокімі тэхнічнымі бар'ерамі, такіх як фотарэзіст, дасягненне прарываў на тэхнічным узроўні з'яўляецца асновай, а па-другое, неабходна пастаяннае ўдасканаленне працэсаў, каб задаволіць патрэбы хуткага развіцця паўправадніковай прамысловасці.
Сардэчна запрашаем на наш вэб-сайт для атрымання інфармацыі аб прадуктах і кансультацый.
Час публікацыі: 27 лістапада 2024 г