Паўправадніковая эпітаксія GaN на аснове крэмнія

Кароткае апісанне:

Semicera Energy Technology Co., Ltd. з'яўляецца вядучым пастаўшчыком удасканаленай паўправадніковай керамікі і адзіным вытворцам у Кітаі, які можа адначасова вырабляць кераміку з карбіду крэмнію высокай чысціні (асабліва рэкрышталізаваны SiC) і CVD пакрыццё SiC. Акрамя таго, наша кампанія таксама займаецца керамічнымі галінамі, такімі як гліназём, нітрыд алюмінію, дыяксід цырконія і нітрыд крэмнія і г.д.

 

Дэталь прадукту

Тэгі прадукту

Эпітаксія GaN на аснове крэмнія

Апісанне прадукту

Наша кампанія прадастаўляе паслугі па нанясенні пакрыцця SiC метадам CVD на паверхні графіту, керамікі і іншых матэрыялаў, так што спецыяльныя газы, якія змяшчаюць вуглярод і крэмній, рэагуюць пры высокай тэмпературы з атрыманнем малекул SiC высокай чысціні, малекул, асаджаных на паверхні матэрыялаў з пакрыццём, фарміраванне SIC ахоўнага пласта.

Асноўныя характарыстыкі:

1. Устойлівасць да акіслення пры высокіх тэмпературах:

устойлівасць да акіслення па-ранейшаму вельмі добрая, калі тэмпература дасягае 1600 C.

2. Высокая чысціня: вырабляецца шляхам хімічнага асаджэння з паравай фазы ва ўмовах высокатэмпературнага хларавання.

3. Устойлівасць да эрозіі: высокая цвёрдасць, кампактная паверхня, дробныя часціцы.

4. Каразійная ўстойлівасць: кіслоты, шчолачы, солі і арганічныя рэагенты.

Асноўныя характарыстыкі пакрыцця CVD-SIC

Уласцівасці SiC-CVD

Крышталічная структура

FCC β фаза

Шчыльнасць

г/см³

3.21

Цвёрдасць

Цвёрдасць па Віккерсу

2500

Памер збожжа

мкм

2~10

Хімічная чысціня

%

99,99995

Цеплаёмістасць

Дж·кг-1 ·К-1

640

Тэмпература сублімацыі

2700

Felexural Сіла

МПа (RT 4-кропка)

415

Модуль Юнга

Gpa (выгіб 4 пункты, 1300 ℃)

430

Цеплавое пашырэнне (CTE)

10-6К-1

4.5

Цеплаправоднасць

(Вт/мК)

300

Semicera Працоўнае месца
Працоўнае месца Semicera 2
Абсталяванне машына
Апрацоўка CNN, хімічная ачыстка, CVD пакрыццё
Наш сэрвіс

  • Папярэдняя:
  • далей: