Сыравіна, якая выкарыстоўваецца ў вытворчасці тонера, звычайна ўключае лускаваты графіт, нафтавы кокс і чарніла з мікракрышталічнага каменя.Чым вышэй чысціня графіту, тым вышэй спажывецкая каштоўнасць.Метады ачысткі графіту можна падзяліць на фізічныя і хімічныя.Фізічныя метады ачысткі ўключаюць флотацию і высокатэмпературную ачыстку, а хімічныя метады ачысткі ўключаюць кіслотна-шчолачны метад, метад плавікавай кіслаты і метад хларыднага абпалу.
Сярод іх высокатэмпературны метад ачысткі можа выкарыстоўваць высокую тэмпературу плаўлення (3773K) і тэмпературу кіпення графіту для дасягнення 4N5 і больш высокай чысціні, якая ўключае выпарэнне і выкід прымешак з нізкай тэмпературай кіпення, каб дасягнуць мэты ачышчэнне [6].Ключавой тэхналогіяй тонера высокай чысціні з'яўляецца выдаленне слядоў прымешак.У спалучэнні з характарыстыкамі хімічнай і высокатэмпературнай ачысткі, унікальны сегментаваны кампазітны высокатэмпературны тэрмахімічны працэс ачысткі прыняты для дасягнення ачысткі тонерных матэрыялаў высокай чысціні, а чысціня прадукту можа быць больш за 6N.
Прадукцыйнасць і характарыстыкі прадукту:
1, чысціня прадукту≥99,9999% (6N);
2, стабільнасць вугляроднага парашка высокай чысціні, высокая ступень графітызацыі, менш прымешак;
3, дэталізацыя і тып могуць быць настроены ў адпаведнасці з карыстальнікамі.
Асноўныя напрамкі выкарыстання прадукту:
■Сінтэз парашка SiC высокай чысціні і іншых цвёрдафазных сінтэтычных карбідных матэрыялаў
■Вырошчваюць алмазы
■Новыя цеплаправодныя матэрыялы для электронных вырабаў
■Матэрыял катода літыевай батарэі высокага класа
■Злучэнні каштоўных металаў таксама з'яўляюцца сыравінай
-
Ствол эпітаксіяльнага рэактара з пакрыццём з карбіду крэмнія
-
Святлодыёдны святлодыёд, устойлівы да высокіх тэмператур і карозіі...
-
Барэльны рэактар для вадкаснай эпітаксіі
-
Паддон MOCVD з антыакісляльным пакрыццём з SiC высокай чысціні
-
Паўправадніковая эпітаксія GaN на аснове крэмнія
-
Рэактар Semi-ceras Barrel Reactor: пашырэнне магчымасцей Semicondu...